提供GB/T 25188-2010硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

国家标准《硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法》 由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 中国科学院化学研究所 、中国计量科学研究院 。
主要起草人 刘芬 、王海 、赵良仲 、宋小平 、赵志娟 、邱丽美 。